在集成电路设计中,通孔是绝缘氧化物层中的一个小开口,答应不同层之间的导电衔接,合包与分包(PAU)工艺被用于制备通孔阵列。与其他两层曝光工艺不同,PAU工艺并不直接供给额定的图形分辨率。图形分辨率只在第一次曝光时取得,第2次曝光只是在密布阵列中挑选所需求的通孔。
在集成电路设计中,通孔是绝缘氧化物层中的一个小开口,答应不同层之间的导电衔接,合包与分包(PAU)工艺被用于制备通孔阵列。与其他两层曝光工艺不同,PAU工艺并不直接供给额定的图形分辨率。图形分辨率只在第一次曝光时取得,第2次曝光只是在密布阵列中挑选所需求的通孔。
在集成电路设计中,通孔是绝缘氧化物层中的一个小开口,答应不同层之间的导电衔接,合包与分包(PAU)工艺被用于制备通孔阵列。与其他两层曝光工艺不同,PAU工艺并不直接供给额定的图形分辨率。图形分辨率只在第一次曝光时取得,第2次曝光只是在密布阵列中挑选所需求的通孔。
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